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离子束清洗 NIE-3000离子束清洗系统
离子源清洗 NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统

晶圆清洗机 LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统
晶圆清洗设备 LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统

进口全自动清洗机 SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机
硅片清洗机 SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统

晶圆清洗设备 SWC-4000兆声晶圆（掩模版）清洗机
等离子清洗设备 NPC-3500（M）等离子去胶机（刻蚀机）

等离子去胶机 NPC-4000（M）等离子去胶机（刻蚀机）
薄膜沉积系统 NLD-3500(A)全自动原子层沉积设备
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